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你對(duì)總有機(jī)碳分析儀的基礎(chǔ)知識(shí)了解多少?知道以下這些嗎?

  • 發(fā)布日期:2019-07-11     信息來(lái)源:      瀏覽次數(shù):1719
    •    總有機(jī)碳分析儀是一款結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)潔的儀器。在使用儀器測(cè)量前,儀器需要連接氣路,并準(zhǔn)備試劑??傆袡C(jī)碳分析儀由安裝在外接計(jì)算機(jī)上的專門軟件控制,進(jìn)行測(cè)量、校準(zhǔn)、打印等數(shù)據(jù)處理工作??傆袡C(jī)碳分析儀可以檢測(cè)TOC濃度從0.001mg/L~100.0mg/L的水樣,具有高靈敏度和度,以及良好的穩(wěn)定性。

       
        總有機(jī)碳分析儀工作原理:
        采用紫外氧化的原理,將樣品中的有機(jī)物氧化為二氧化碳,二氧化碳的測(cè)試采用的是直接電導(dǎo)率法,通過(guò)測(cè)試經(jīng)過(guò)氧化反應(yīng)的樣品的總碳含量和未經(jīng)過(guò)氧化反應(yīng)的樣品總無(wú)機(jī)碳的含量差值來(lái)測(cè)定總有機(jī)碳含量,即:總有機(jī)碳(TOC)=總碳(TC)-總無(wú)機(jī)碳(TIC)。
       
        總有機(jī)碳分析儀的應(yīng)用范圍:
        1、該儀器可用于檢測(cè)制藥工業(yè)中純化水、注射用水和去離子水中有機(jī)碳的濃度;也可用于半導(dǎo)體行業(yè)中超純水TOC的檢測(cè)。
        2、在制藥領(lǐng)域和生物化學(xué)領(lǐng)域清潔驗(yàn)證過(guò)程中,可用于驗(yàn)證清潔效果。
        3、該儀器具有在線檢測(cè)功能,可以在線監(jiān)測(cè)制藥工業(yè)的制水系統(tǒng)、半導(dǎo)體工業(yè)的超純水制備系統(tǒng)和晶片工藝過(guò)程、電廠去離子水制備過(guò)程等。

        總有機(jī)碳分析儀的主要特點(diǎn):
        1、自動(dòng)清洗系統(tǒng):每次重復(fù)檢測(cè)時(shí),自動(dòng)清洗樣品反應(yīng)室。
        2、智能稀釋功能:當(dāng)系統(tǒng)發(fā)現(xiàn)樣品含量超過(guò)線性范圍時(shí),系統(tǒng)將自動(dòng)稀釋樣品濃度至線性范圍。
        3、質(zhì)量流量控制器:根據(jù)不同的操作模式來(lái)控制氣體流動(dòng)狀態(tài),在自動(dòng)控制流量的同時(shí),自動(dòng)監(jiān)測(cè)儀器是否存在泄漏的情況。
        4、靜壓濃度:樣品氧化之后,進(jìn)入非色散紅外檢測(cè)器(NDIR),通過(guò)載氣加壓讓全部樣品進(jìn)入檢測(cè)器,保證結(jié)果的準(zhǔn)確性。
        5、自動(dòng)標(biāo)準(zhǔn)曲線:根據(jù)線性濃度的要求,系統(tǒng)自動(dòng)稀釋溶液至終濃度。減少了多次人工配置標(biāo)準(zhǔn)溶液帶來(lái)的誤差,同時(shí)提高了分析效率。
        6、人性化的操作界面:TekmarTOCTekLinkTM軟件允許客戶編輯、上傳和下載所有的參數(shù)和方法。軟件一旦激活將連續(xù)監(jiān)控系統(tǒng),以保證沒(méi)有超出操作限制。同時(shí),軟件具備一系列有效的自我診斷功能。例如:泄漏測(cè)試、基準(zhǔn)測(cè)試等。同時(shí),軟件滿足美國(guó)FDA21CFRPart11要求,確保數(shù)據(jù)的有效性和可靠性。滿足3Q(IQ/OQ/PQ)認(rèn)證及清潔驗(yàn)證需求。
       
        總有機(jī)碳分析儀使用注意事項(xiàng):
        1、開(kāi)機(jī)之前,敬請(qǐng)仔細(xì)閱讀本使用指南,以防止出現(xiàn)對(duì)操作人員的意外傷害或?qū)x器的損壞等的事件。
        2、操作前,請(qǐng)閱讀“安裝與設(shè)置”,保證對(duì)儀器各部件的正確安裝與連接。
        3、在次操作前,務(wù)必請(qǐng)有操作經(jīng)驗(yàn)的人員進(jìn)行指導(dǎo),防止誤操作造成意外事件的發(fā)生。
        4、電擊危險(xiǎn):確保在安裝或維修該儀器之前使所有導(dǎo)線斷電,防止在帶電情況下,對(duì)人員或設(shè)備造成傷害。